冲床一般分为几种?
按滑块驱动力可分为机械式与液压式两种，故冲床依其使用之驱动力不同分为：（1）机械式冲床（Mechanical Power Press）（2）液压式冲床（Hydraulic Press）一般板金冲压加工，大部份使用机械式冲床。
数控转塔冲床的几种加工方式：1）单冲：单次完成冲孔，包括直线分布、圆弧分布、圆周分布、栅格孔的冲压。2）同方向的连续冲裁：使用长方形模具部分重叠加工的方式，可以进行加工长型孔、切边等。3）多方向的连续冲裁：使用小模具加工大孔的加工方式。
通用冲床按床身结构特点分为开式冲床和闭式冲床两种。开式冲床的压力较小，一般在25-4000kN之间。闭式冲床的公称压力较大，一般在1600～16000kN以上。拉深（拉延）冲床 这类冲床适用于拉深工序，按其传动系统的位置分为上传动和下传动冲床：按其滑块的数目分为单动、双动、三动拉延冲床。
按照驱动力不同分滑块驱动力可分为机械式与液压式两种，故冲床依其使用之驱动力不同分为：机械式冲床液压式冲床普通板金冲压加工，大部份使用机械式冲床。液压式冲床依其使用液体不同，有油压式冲床与水压式冲床，使用油压式冲床占多数，水压式冲床则多用于巨型机械或特殊机械。
冲压的特点是什么?
冲压是一种高生产效率、低材料消耗的加工方法。工艺特点：（1）冲压是一种高生产效率、低材料消耗的加工方法。冲压工艺适用于较大批量零件制品的生产，便于实现机械化与自动化，有较高的生产效率。同时，冲压生产不仅能努力做到少废料和无废料生产，而且即使在某些情况下有边角余料，也可以充分利用。
冲压是一种金属加工工艺，其主要特点如下： 高效率：冲压通常用于大批量生产中，因为它可以快速、高效地制造出大量相同或不同的零件。冲压机可以快速地重复执行相同的冲压动作，大大提高了生产效率。
冲压是一种金属加工工艺，其主要特点如下： 生产效率高：冲压通常使用模具进行批量生产，模具的制造周期短、精度高，可重复使用，大大提高了生产效率。 适用于大批量生产：冲压适用于生产大量且形状规则的零件，如汽车零部件、家用电器零件、电子产品部件等。
下面简单介绍下冲压工艺的特点和注意事项：冲压工艺的特点：（1）用冷冲压方法可以得到形状复杂、用其他方法难以制造的工件，如薄壳零件等。（2）冷冲压件的尺寸精度是由模具保证的，因此尺寸稳定互换性好。（3）材料利用率高，工件重量轻、刚性好、强度高、冲压过程耗能少。
冲压的特点：冲压工艺具有高效率、高精度、高生产率和低噪音等优点。由于使用了模具，工件的尺寸和形状可以得到很好的控制，从而使得产品质量稳定。此外，冲压工艺可以自动化生产，大大提高了生产效率。 冲压的应用范围：冲压工艺广泛应用于汽车、电子、电器、航空、五金等领域。
精密冲压和普通冲压都有什么区别?
1、普通冲压一般只能冲裁宽度和孔径最小相当于材料厚度的工件，而精密冲压可冲制宽度小于料厚0.5～0.7mm的工件，并且可兼做压印及压形工序。对原材料要求 普通冲压对原材料没有什么特殊要求，而精密冲压对原材料必须要有良好的塑性。对于塑性低的材料，在冲压前需经退火来提高其塑性。
2、精冲与普冲的主要区别在于对精度、材料、工艺、模具和后处理的严格要求。首先，精冲（精密冲裁）是在高精度断面光洁度需求下，为满足普通冲压无法提供的高精度而发展起来的，类似于冲压与冷挤压的结合。它通过特殊的齿圈压板结构，施加三向压应力，确保材料在分离时始终处于压应力状态，从而实现整齐的断面。
3、冲压模具刺破与精切区别在于断面质量和冲模结构形式不同。
高精密数控油压机的特点是什么?
机器操作更人性化，友好人机界面，压力、位置、速度可在电脑屏上任意设定调节。采用闭环系统控制，压力精度。在全自动生产模式下可配合自动生产线使用，较传统机型的生产周期可缩短约20% 。采用比例液压系统控制，可以满足不同的工艺对速度压力的变化要求，并且运动更平稳 。
采用高精密位移传感器检测，精度高，可达±0.02mm 与传统同类机型相比较，节能达30 机器操作更人性化，友好人机界面，压力、位置、速度可在电脑屏上任意设定调节。采用闭环系统控制，压力精度度。
伺服电机灵敏度高，响应快速特点：采用高精密位移传感器检测，重复定位精度高，可达0.02mm.机器操作更人性化，友好人机介面，压力、位置、速度可在电脑屏上任意设定调节。
高精密控油压机结构组成有哪些。机身采用传统弓形结构，和传统机械式冲床相仿，结构简单紧凑，占地面积小，操作方便 。机身上部装有精密定位装置，机械死限位，并有伺服调装置。2/4 主缸为活塞式油缸，内设快速缸，可实现高速下行，慢速压制动作。 提高生产效率。
数控油压机的特点有精度高，压力准，无噪音，能耗低，鑫台铭产量实时记录，产品在线评判，压装压力曲线显示，位移压力显示，屏幕任意设定数据，100套工艺储存，1数据存储、提取、打印，1超出设定值报警。
半导体材料中,离子注入与离子掺杂有什么区别?
具体地说，离子注入能改变材料的声学、光学和超导性能，提高材料的工作硬度、耐磨损性、抗腐蚀性和抗氧化性，最终延长材料工作寿命。
离子掺杂应该就是通过离子注入工艺来实现的包括施主杂质或受主杂质的掺杂，掺杂方式还有扩散掺杂，不过精确度不高而且掺杂时间过长，大部分的半导体或面板等行业都是离子注入方式。
离子注入不会产生类似热扩散那样严重的横向扩散。4）离子注入在大面积掺杂区域上具有非常好的均匀性。5）由于离子掺杂是低温过程，因此，特别适用于易被热分解的半导体材料，如化合物半导体的掺杂。6）掺杂杂质纯度高。7）高能量入射离子能够穿透一定厚度的掩蔽膜进行掺杂。
半导体的常用掺杂技术主要有两种，即高扩散和离子注入。掺入的杂质主要有两类，第一类是提供载流子的受主杂质或施主杂质，第二类是产生复合中心的重金属杂质。热扩散技术是对于施主或受主杂质的掺入，就需要进行较高温度的热扩散。
掺杂：在半导体材料中掺入不同的杂质原子，可以改变材料的导电性质。掺入五价元素（如磷、砷等）可以形成N型半导体，掺入三价元素（如硼、铝等）可以形成P型半导体。离子注入：通过离子注入技术，在半导体表面形成高能离子轰击区域，使局部区域的导电性质发生改变。
半导体器件的掺杂如同烹饪中的调味，不可或缺。掺杂是通过引入杂质元素改变半导体材料电学性质，以达到所需性能。主要的掺杂方法有扩散和离子注入，它们在半导体器件制造中各有其用武之地。扩散，像是慢慢渗入，是通过高温环境让杂质原子自然扩散至半导体中，适用于形成深结。
离子注入与蒸发镀膜复合技术的应用方向和发展
研究结果表明，金属离子注入在非半导体材料离子注入表面改性研究与应用中效果更加显著，应用范围更加广泛，许多氮离子注入无法实现的，金属离子注入可以很好地实现。但是，基于半导体离子注入需要的传统离子注入机，要想获得比较强束流的金属离子束是比较困难的，进行非半导体材料离子注入表面改性所需的费用也是比较昂贵的。
精确控制：离子注入可以通过控制注入剂量、注入能量及束流密度来精确控制注入离子的浓度和深度的分布，使得掺杂的浓度和结深在扩散过程中无法独立控制的问题得以解决。
高能束应用方面发展了激光或电子束表面熔覆、表面淬火、表面合金化、表面熔凝等技术。离子注入方面，继强流氮离子注入技术之后，又研究出强流金属离子注入技术金属等离子体浸没注入技术。解决产品表面工程问题时，新兴表面技术与传统表面技术相互补充，为表面工程工作者提供了宽广选择余地。
公司采取“拼市场、降成本”的策略，一方面积极开拓国际国内市场，增大市场占有率；一方面从生产成本管控和办公成本压缩等多方面共同促进运营成本的下降和控制。同时，中利腾晖也在商业模式上进行转型，由原来单一产品提供模式转变为全方位一体化的服务模式。
然而， 离子注入的注入层太薄， 仅数百纳米， 在耐磨工况下应用受到一定限制。为了克服真空蒸发镀膜法结合力差以及离子注入法注入层浅的问题， 科研人员把薄膜蒸发沉积与离子注入技术结合起来， 研究出了真空蒸发离子束辅助沉积技术[ 5， 6] 。