金相抛光机金相试样抛光的技术要求
操作过程中应持续添加微粉悬浮液，保持抛光织物湿度，以优化抛光效果。过高湿度会减弱磨痕作用，而过低湿度可能导致试样升温，影响抛光效果。精抛阶段的目标是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤最小化。此阶段转盘转速可适当提高，抛光时间应足以去除粗抛损伤层。
MoPao1000金相自动研磨/抛光机具有多种技术参数，以满足不同需求。首先，磨抛盘转速采用无级调速，范围在50至600转每分钟，或者提供两级定速选择，分别为150r/min和300r/min。对于加荷控制，它支持1到200牛顿（N）的范围，确保了灵活且精确的压力设定。